Metallizzazione di contatti

La tecnica di metallizzazione è generalmente finalizzata (ma non limitata) alla fabbricazione di contatti elettrici di prototipi e dispositivi per l'estrazione dei segnali da loro prodotti. Di solito i metalli vengono depositati con uno spessore che varia da pochi strati atomici a pochi micrometri, in funzione dell'applicazione specifica. ISM propone tre tecniche per la metallizzazione: sputtering con magnetron, evaporazione con fascio elettronico e deposizione laser pulsata, tutte situate nel laboratorio DiaTHEMA della sezione Montelibretti.
Nello sputtering con magnetron, le particelle ionizzate dovute all'attivazione di un plasma di un gas inerte (ad es. Ar) sono costrette a urtare un bersaglio (il materiale da depositare) causando l'espulsione di atomi e/o cluster molecolari, che successivamente si condensano sulla superficie del substrato per la formazione del rivestimento metallico. Questa configurazione viene generalmente utilizzata nella deposizione di film con spessore> 20 nm. Derivato da un'unità commerciale (Leybold LH Z400), il sistema disponibile è dedicato alla deposizione di materiali di dimensioni fino a 4 pollici.
L'evaporazione da fascio elettronico è una deposizione fisica di vapore in cui gli elettroni ad alta energia incidono sul materiale da depositare, tipicamente sotto forma di barre o pellet, inducendone la sublimazione e la successiva deposizione su un substrato. All'interno della camera a vuoto, il metallo viene inserito in un crogiolo dove viene irraggiato da un fascio di elettroni. Il sistema impiega un sistema multi-crogiolo che consente il deposito di multistrati. Per migliorare l'omogeneità della deposizione, i substrati sono montati su un supporto rotante, la cui velocità può essere controllata dall'operatore.
La deposizione laser pulsata si basa sulla vaporizzazione da un material bersaglio causata dell'interazione con un raggio laser ad alta potenza. Il materiale evaporato forma una densa nuvola di specie ionizzate, di diversa natura, nota come plume. La plume, formata da atomi, ioni, particelle e piccoli aggregati atomici (vale a dire ammassi), si condensa sulla superficie del substrato di deposizione. La sorgente laser disponibile è un Lambda COMPex 102, in grado di produrre un raggio pulsato (con una durata di impulso singolo pari a 30 ns) che opera in modalità Q-switching e con una lunghezza d'onda di 193 nm.

Leybold LH Z400 IONVAC EVPK 500EBK ns-PLD (@193 nm)