La Riflettometria di Raggi X (XRR) è una tecnica analitica di superficie molto sensibile, utilizzata in chimica, fisica e scienza dei materiali per caratterizzare superfici , film sottili e multistrati. La modalità in Dispersione di Energia (EDXR) si basa sull’utilizzo di un fascio policromatico.
L'idea alla base della tecnica è quella usare la riflessione di un fascio di raggi X da una superficie piana e misurarne l'intensità riflessa nella direzione speculare (angolo di riflessione uguale all'angolo incidente). Se l'interfaccia non è perfettamente uniforme o si studia un film (o un multilayer) depositato su un substrato, l'intensità riflessa e la direzione dei fasci riflessi alle interfacce, si discosteranno da quelli perfettamente speculari (per rifrazione nel mezzo) dando luogo a frange di interferenza. Le deviazioni possono poi essere analizzate per ottenere il profilo di densità dell'interfaccia normale alla superficie, lo spessore dei materiali investigati e la rugosità della superfice e delle interfacce a meno di modellazioni teoriche.
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