
SPECIFICHE TECNICHE
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Pressione in alto vuoto < 10-8mbar
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Electron gun da 1.5 kW pilotato da controller Temescal TemEBeam EBC;
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Possibilità di caricare fino a quattro materiali di deposizione differenti;
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Spessore dei campioni misurata da microbilancia al quarzo.
TECNICHE DISPONIBILI
- e-beam evaporation
CAMPIONI
- Qualsiasi wafer fino a 6 pollici di diametro
UTILIZZATO PER
- Deposizione di film sottili e ultra-sottili;
- Crescita di coatings a ridotta affinità elettronica su semiconduttori.
ESEMPI APPLICATIVI
Ultra-thin films of barium fluoride with low work function for thermionic-thermophotovoltaic applications
Tramite la deposizione per evaporazione con fascio elettronico è stato possibile verificare l'efficacia dei coating sottili e ultra-sottili di fluoruro di bario nel ridurrela funzione lavoro di wafer di GaAs da 4.6 eV a 2.1 eV. Lo studio è stato effettuato analizzando spessore e composizione dei coatings. La loro applicazione potenziale è in sistemi ibridi termoionico-fotovoltaici.
Si veda: V. Serpente et al., Mater. Chem. Phys 249 (2020) 122989
