Il sistema Leybold LH Z400 è dedicato alla deposizione di materiali (sia metalli che ossidi) tramite sputtering con plasma. Il sistema è composto da una camera da vuoto con, all’interno, un portacampioni e un sistema di 3 target da 4 pollici.
In questa tecnica le particelle ionizzate che compongono il plasma di un gas inerte vengono fatte impattare su un target (composto dal materiale da depositare) permettendo l’estrazione di cluster di atomi e/o molecole, che si andranno a condensare sulla superficie del substrato di deposizione.
Viene generalmente impiegato nella deposizione di film con spessori >100 nm, nella realizzazione di contatti metallici (siano essi realizzati tramite litografia ottica o con shadow mask) e per metallizzazioni.
SPECIFICHE TECNICHE
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Generatore RF e DC
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3 target installabili contemporaneamente
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Gas reattivo: Ar
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Pressione base camera: 5x10-7 mbar
TECNICHE DISPONIBILI
- Deposizione per sputtering attivata in RF
- Deposizione per sputtering attivata in DC
CAMPIONI
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Dimensione massima: 4 pollici di diametro
UTILIZZATO PER
- Deposizione contatti metallici;
- Deposizione di multistrato metallici
ESEMPI APPLICATIVI
Gli spettrometri in diamante per neutroni veloci, disposti come matrice a pixel singolo e multi pixel, sono stati metallizzati con lo sputtering del magnetron per ottenere contatti quasi ohmici sul diamante e operano in condizioni di carica spaziale estremamente ridotte.
Si veda: C. Cazzaniga, et al., and G. Gorini, A diamond based neutron spectrometer for diagnostics of deuterium-tritium fusion plasmas, Review of Scientific Instruments, 85 (2014) 11E101
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