Superfici, Interfacce e Sistemi a Bassa Dimensionalità a Controllo Atomico

Superfici, Interfacce e Sistemi a Bassa Dimensionalità a Controllo Atomico

La piattaforma dispone di apparati da Ultra Alto Vuoto (UHV <= 10-10 mbar) che consentono la deposizione e crescita, con controllo dello spessore al livello del singolo strato o sua frazione, di sistemi inorganici e ibridi organico/inorganico in condizioni di rigoroso controllo di purezza.