La produzione di film sottili ed eterostrutture è arricchita anche dalla presenza di altre tecniche di Deposizione Chimica da Fase Vapore (Chemical Vapour Deposition - CVD).
ISM ha infatti competenze decennali nello sviluppo di materiali a base carbonio come diamante sintetico, carbonio amorfo, Diamond-Like Carbon (DLC), nanotubi e grafene, in forma di strati sottili per applicazioni elettroniche, ottiche, meccaniche, termiche e optoelettroniche.
Presso il DiaTHEMA Lab di Montelibretti si depositano strati sottili a base di carbonio a partire da miscele gassose di idrogeno, metano, argon e/o azoto mediante CVD, come la tecnica MicroWave-Enhanced (MW-CVD) e la Hot-Filament CVD (HF-CVD).
In particolare, gli strati di diamante sono oggetto di ricerca preferenziale, sia nella loro produzione, depositati in forma policristallina o nanocristallina su silicio, carburi e nitruri su grandi aree (eteroepitassia) e in forma monocristallina su substrati in diamante HPHT (alta pressione alta temperatura) o sintetici CVD, che nella loro ottimizzazione.
La tecnica MW-CVD si distingue dalla HF-CVD per la pulizia del processo, vantaggiosa per la realizzazione di un materiale a bassa concentrazione di difetti e impurezze da utilizzare in elettronica e per la rivelazione di radiazione ionizzante. La tecnica HF-CVD ha come vantaggio la capacità di una deposizione uniforme di strati di diamante su grandi aree.
Le applicazioni degli strati a base carbonio sviluppati vanno dal rivestimento di utensili da taglio alla dissipazione termica, dalla rivelazione di radiazione all'elettronica di potenza, dalla conversione di energia nucleare a quella solare e dall'optoelettronica alla quantistica.
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