Infrastrutture


 

1. ADES 450 
Descrizione: Apparato UPS, XPS e Auger risolto in angolo per la caratterizzazione di substrati e superfici di semiconduttori e overlayer metallici
Sede: ARTOV
Gruppo: MD.P06.006
Riferimento: Antonio Cricenti
2. Apparato di deposizione UHV 
Descrizione: Apparato di deposizione films sottili munito di sistema di pompaggio a turbina separato per camera e precamera.
Sede: MLIB
Riferimento: Anna Maria Paoletti
3. Diffrattometro RX film sottili 
Descrizione: Diffrattometro Seifert XRD 3003TT dotato di attachment per film sottili
Sede: MLIB
Riferimento: Patrizia Imperatori
4. Diffrattometro RX polveri 
Descrizione: Diffrattometro Seifert XRD 3003P
Sede: MLIB
Riferimento: Patrizia Imperatori
5. EDRX 
Descrizione: Diffrattometro a raggi X in Dispersione di Energia
Sede: ARTOV
Gruppo: MD.P03.006
Riferimento: Valerio Rossi Albertini
6. KSV 2000 
Descrizione: Apparato per la realizzazione di films sottili Langmuir-Blodgett (LB)
Sede: MLIB
Riferimento: Aldo Capobianchi
7. Laboratorio SAMOS
Descrizione: Camera UHV per lo studio di superfici
Sede: ARTOV
Gruppo: MD.P06.005
Riferimento: Giorgio Contini
8. Linea di Luce di Sincrotone Circolarmente Polarizzata 
Descrizione: La caratteristica principale della linea è quella di fornire un fascio di radiazione di sincrotrone a polarizzazione variabile (Circolare e/o Lineare) in un ampio intervallo spettrale che copre l’intervallo di energie tra 5eV e 1000eV.
Sede: Trieste
Gruppo: MD.P06.005
Riferimento: Nicola Zema
9. Linea di Luce di Sincrotrone per spettroscopia VUV 
Descrizione: La linea di luce di sincrotrone ad alta brillanza nell’intervallo spettrale da 15 eV a 1000 eV, nel quale è in grado di operare con un potere risolutivo medio di 104.
Sede: Trieste
Gruppo: MD.P04.004
Riferimento: Carlo Carbone
10. MBE 
Descrizione: Apparato per Molecular Beam Epitaxy per la crescita di semiconduttori magnetici diluiti come MnxGe1-x, composti ferromagnetici Mn5Ge3, strati epitassiali o dots di Ge/Si, SiGe/Si drogati con Mn (Sb, As e Bi)
Sede: ARTOV
Gruppo: MD.P04.004
Riferimento: Paola De Padova
11. PLD 
Descrizione: Laser eccimeri KrF (246nm), 300mJ, 50Hz – Camera deposizione HV
Sede: MLIB
Riferimento: Elisabetta Agostinelli
12. SPM 
Descrizione: Laboratori di Scanning Probe Microscopy
Sede: ARTOV
Gruppo: MD.P06.006
Riferimento: Antonio Cricenti
13. Spettrometro EPR  
Descrizione: Spettrometro Varian E-109, Hmax 1.5 T f= 9.1 e 35 GHz T= 4-300 K
Sede: MLIB
Riferimento: Donato Attanasio
14. Spettrometro FT-IR  
Descrizione: IR-Prestige-21 Shimadzu; intervallo lunghezze d’onda 7.800 – 350 cm-1;
Sede: MLIB
Riferimento: Elvira Maria Bauer
15. Spettrometro UV-Visibile  
Descrizione: Spectrophotometer 950 Perkin-Elmer; intervallo lunghezze d’onda 175 – 3300 nm; UV/Vis risoluzione 0.05 – 5.00 nm; Nir risoluzione 0.2 – 20 nm; accessori: riflettanza speculare (URA); riflettanza diffusione a sfera integratrice
Sede: MLIB
Riferimento: Elvira Maria Bauer
16. SQUID RF  
Descrizione: Hmax 5.5 T; T= 2-300K
Sede: MLIB
Riferimento: Alberto Maria Testa
17. Suscettometro-AC  
Descrizione: T=4-300K; f=10Hz-10kHz
Sede: MLIB
Riferimento: Dino Fiorani
18. VSM  
Descrizione: Magnetometro vettoriale VMS; Hmax 2T; T=70-300K
Sede: MLIB
Riferimento: Alberto Maria Testa